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全本小说网 www.quanben5.net,从扑街写手到学霸科学家无错无删减全文免费阅读!

    这次任务摊在他们身上的应不算重。

    重的应该是那些十年如一日都在攻克光学镜片的科研小组,他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。

    但是从来没有像这次一样急迫,因为美国和岛国等国家的压迫,现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。

    这年来国内也有一定的科研成果。

    2017年smee就验收了90nm光刻机,马上就具备了成本优势和企业规模,占据了全国60%的市场,全球40%的市场。

    外国怎么能不害怕。

    目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室,28nm制程,最高可制造22nm,但那是从国外买的,而且也经过了多方的手续。

    221计划的最终目的是突破14nm的光刻机,并且建设上下游相应的工艺研发生产线,这才是华夏老大难的问题。

    而不是有没有这个技术的问题。

    宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机,进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。

    其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破,并且低调封装。

    28nm的光刻机在悄悄研发,目前已经在国家验收当中。

    宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性,做到了193纳米浸润光刻,这个193和晶圆的大小几nm的不一样,193nm说的是光源的波长,除了193之外还有一种248nm的光线。

    这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。

    别人过去二十年用的是car,这几年都是在考虑金属氧化物或者干性光刻胶,富勒烯……这是个什么玩意儿?

    富勒烯能够量产了?

    别问,问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。

    他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技,要中试要放大要实现产业化,交给他们了!

    而且这还不是它的终点,富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。

    作为拥有它们资料的人,宋问声是再清楚不过的了。

    咱们华夏藏着一些技术,外国未必没有,去年年底的时候,asml即已经提出了3nm光刻机产业化。

    他们甚至想要延续摩尔定律,将半导体工艺再未来几年内推进到1nm,但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。

    各种各样的东西桎梏着发展。

    材料、设备、制造……

    他们一个一个问题都被解决了,剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。

    可是在asml收购美国光源制造商cymer之后,光源问题得到了解决,那就剩下一个问题——光刻胶。

    他... -->>

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